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主机平台:承载所有部件的刚性基座,需抗震、防变形(高温下基座变形会影响测试精度)。
温控系统:
加热台:放置样品的平台,材质多为耐高温陶瓷(如 Al?O?)或金属(如 Inconel 合金),内置加热丝或加热膜,支持精准控温(精度通常 ±0.1~1℃)。
热电偶 / 红外测温仪:实时监测样品表面温度,反馈给温控器实现闭环控制。
温控器:设置目标温度、升温速率(通常 0.1~10℃/min 可调),具备超温保护功能(防止样品或设备损坏)。
探针系统:
探针臂:多轴(齿/驰/窜/θ)可调的精密机械臂,材质需耐高温(避免高温下变形),部分型号配备隔热设计(防止探针臂受热影响定位精度)。
探针:根据测试需求选择(如钨针、铼钨针、蓝宝石探针等),针尖直径从微米级到亚微米级,需耐高温、抗氧化(如高温下使用镀金或陶瓷涂层探针)。
探针座:固定探针,部分带弹簧缓冲结构(避免探针与样品硬接触导致损坏)。
真空 / 大气系统:
真空吸附装置:通过真空泵将样品吸附在加热台上(防止高温下样品移位),真空度通常可达 10??~10??Pa。
气氛控制模块(可选):部分设备可通入惰性气体(如 N?、Ar)或反应气体,防止样品高温氧化。
光学观察系统:
显微镜(光学或金相显微镜):放大样品表面(100~1000 倍),辅助探针精准定位到测试点(如芯片的焊盘、材料的电极)。
CCD 摄像头:实时显示观察画面,部分支持图像存储和标注。
电学连接系统:探针通过同轴电缆连接到测试仪器(如万用表、半导体参数分析仪、示波器等),传输电信号(电压、电流、电阻等)。
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